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离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用

离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用. 指导老师 : 王宏智 学生 : 张晓振. 提纲. 课题背景与意义 国内外发展状况 研究内容与方法 实验计划. 课题背景与意义. 课题背景与意义. 有机熔盐体系. 国内外发展状况. 2011 年，华东理工大学李冰采用脉冲电流法在 [EMIC]Cl-AlCl 3 电沉积铝。. SEM micrographs of deposits on Cu substrate of an AlCl 3 -EMIC(2:1 molar ratio) at 60 ℃ for 30 min;

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离子液体中金属铝的电沉积 及其 AAO 模板的制备与应用

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Presentation Transcript

  1. 离子液体中金属铝的电沉积及其AAO模板的制备与应用离子液体中金属铝的电沉积及其AAO模板的制备与应用 指导老师:王宏智 学生:张晓振

  2. 提纲 • 课题背景与意义 • 国内外发展状况 • 研究内容与方法 • 实验计划

  3. 课题背景与意义

  4. 课题背景与意义

  5. 有机熔盐体系

  6. 国内外发展状况 • 2011年，华东理工大学李冰采用脉冲电流法在[EMIC]Cl-AlCl3电沉积铝。 SEM micrographs of deposits on Cu substrate of an AlCl3-EMIC(2:1 molar ratio) at 60℃ for 30min; (a)im=20mA/cm2; (b)im=5mA/cm2; (c) im=5mA/cm2; ton=9ms; toff=1ms.

  7. 国内外发展状况 2012年3月，南京航空航天大学裴玉汝在离子液体[BMIM]Cl-AlCl3中分别以不锈钢和铜为基底，制备出镀铝层。 不锈钢基底镀铝层SEM 放大1000倍 放大5000倍 放大10000倍

  8. 国内外发展状况 • 工艺条件：恒压1.4V，电镀时间40min， 温度56℃，电流密度18-20mA/cm2 • 镀铝层 （i）铝镀层表面平整且致密均匀 （ii）通过电镀时间、温度、电流密度等工艺参数调节铝镀层

  9. 国内外发展状况 • 铜基底镀铝层SEM 放大10000倍 放大1000倍 放大5000倍

  10. 国内外发展状况 工艺条件：恒压1.4V，电镀时间45min 温度55℃，电流密度18-20mA/cm2 镀铝层 （i）表面平整、致密、均匀，铝晶粒大小均一 （ii）表面无开裂

  11. 研究内容与方法 • 通过对镀铝层的形貌研究，探寻最佳镀铝工艺 • 对镀铝层阳极氧化制得AAO模板进行表征 • 讨论在AAO模板中沉积金属后电极的性能

  12. 研究内容与方法 在不锈钢或铜基底上镀铝层的制备过程 离子液体[BMIM]Cl-AlCl3的制备 以铝为阳极，不锈钢或铜基底为阴极，在离子液体中进行电镀 调节工艺参数电镀时间、电流密度，温度等 获得不同条件下的镀铝层并进行测试

  13. 研究内容与方法 离子液体中电镀铝装置示意图

  14. 研究内容与方法 离子液体中电沉积铝的工艺流程图

  15. 研究内容与方法 多孔阳极氧化铝膜制备的流程示意图

  16. 实验计划 • 2013,5-7：查阅文献及实验前期准备工作。 • 2013,8-12：离子液体中制备镀铝层。 • 2014,1-6：对镀铝层形貌和化学成分进行分析。 • 2014,7-12：在镀铝层上阳极氧化制备AAO模板。 • 2015,1-4：整理数据，撰写毕业论文。 • 2015,5-7：准备毕业答辩。

  17. 谢谢！

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