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Litografia par estruturas reais

Litografia par estruturas reais. Correção de máscaras (OPG- óptical proximity correction ). Phase shifting technique : melhoria em contraste. Sistema de projeção de varredura (1:1), com alta efficiência ( throughput ), usado para lâminas grandes.

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Litografia par estruturas reais

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Presentation Transcript

  1. Litografia par estruturas reais

  2. Correção de máscaras (OPG- óptical proximity correction)

  3. Phase shifting technique : melhoria em contraste

  4. Sistema de projeção de varredura (1:1), com alta efficiência (throughput), usado para lâminas grandes

  5. Seqüência de gravação step-and-repeat

  6. Espessura de resiste em função da velocidade de spinner

  7. Dispositivos para recozimento (baking) de resiste

  8. Exposição: efeito do tempo

  9. Interferência da luz dentro de resiste: ondas estacionárias

  10. Anti-reflection coating, exemplo de uso

  11. Revelação: efeito do tempo

  12. Litografia com feixe de elétrons

  13. Espalhamento de elétrons em resiste e substrato, efeito de proximidade

  14. Efeitos de inter- e intra-proximidade

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