5_ПРОИЗВОДСТВО_ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ_МАТЕРИАЛОВ
.....................
5_ПРОИЗВОДСТВО_ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ_МАТЕРИАЛОВ
E N D
Presentation Transcript
ОСВОЕНИЕ ПРОИЗВОДСТВА ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОННОГО ПРОИЗВОДСТВА
ПРОИЗВОДСТВО ЛИТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ ОПИСАНИЕ ПРЕИМУЩЕСТВА Разработка технологии получения и освоение производства фоторезистов и покрытий антиотражающих (ПА) для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248-193нм нм (KrF)(EUV_x-ray) Снижение импортной зависимости российской микроэлектроники Обеспечение создания российских изделий микроэлектроники современного уровня военного назначения и двойного применения На текущий отсутствуют отечественные технологии и работающие производства по получению резистивных материалов для фотолитографии с подобными характеристиками РАЗРАБОТЧИК ПРИМЕНЕНИЕ Производство микроэлектроники