1 / 32

FBMI ČVUT Kladno

FBMI ČVUT Kladno. Plazmatick é rentgenové lasery I Fyzikální principy 12.11.20 1 2 Jaroslav Nejdl nejdl @fzu.cz. Obsah. Stru čný přehled zdrojů záření v oblasti XUV Fyzika plazmatick ých rentgenových laserů Laserová akce v oblasti XUV D ělení RTG laserů Používaná schémata

kassia
Télécharger la présentation

FBMI ČVUT Kladno

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. FBMI ČVUTKladno Plazmatické rentgenové lasery IFyzikální principy 12.11.2012 Jaroslav Nejdl nejdl@fzu.cz

  2. Obsah • Stručný přehled zdrojů záření v oblasti XUV • Fyzika plazmatických rentgenových laserů • Laserová akce v oblasti XUV • Dělení RTG laserů • Používaná schémata • Srážkové excitační schéma • Rekombinační schéma • Ionizace vnitřní slupky • Šíření záření v gradientním prostředí

  3. Úvod RTG lasery = zdroje kvazi-monochromatického záření v oblasti XUV s jistým stupněm koherence D. Attwood: Lectures on Soft X-Rays and Extreme Ultraviolet Radiation. www.coe.berkeley.edu/AST/sxreuv

  4. Úvod Silná absorpce tohoto záření ve vzduchu - nutnost práce ve vakuu http://invaderxan.pbwiki.com/

  5. Úvod - zdroje Oscilující elektronový svazek urychlený na relativistické energie Synchrotron Plazmatický betatron Inverzní Comptonův rozptyl

  6. Úvod –zdroje Lasery na volných elektronech (FEL) urychlený e- svazek je vychylován periodickou soustavou magnetů (synchrotronní záření) Japonsko Kalifornie Německo LCLS SACLA European XFEL http://en.wikipedia.org/wiki/Undulator

  7. Úvod - zdroje Urychlené elektrony bržděné v materiálu Rentgenka Plazmatický zdroj K-alfa záření

  8. Úvod - zdroje Plazmatické rentgenové lasery využívají zářivých přechodů některých druhů iontů plazma generované laserovým pulsem pevný terč plynný terč (podélné čerpání) http://www.mbi-berlin.de

  9. Úvod - zdroje plazma vytvořené kapilárním výbojem Generace vysokých harmonických (řádu až 1000) nelineární odezva prostředí na intenzivní laserový puls (viz následující přednáška) D. Attwood: Lectures

  10. Plazmatické RTGL • Vhodné aktivní prostředí – mnohonásobně ionizované atomy (plazma) Př] vodíku-podobný iont (H-like) Z– protonové číslo ni – hlavní kvantové číslo t – doba života H-podobný C = C+5 = C VI (spektroskopické značení): přechod 2p – 1s: ħw = 367eV, l = 3.4 nm, t= 1.2 ps

  11. Iontové stavy • používá se značení iontů podle podobnosti elektronového obalu s prvky periodické soustavy • u iontů se obsazují vždy nejdříve slupky s nižším hlavním kvantovým číslem: vodíku-podobný iont – 1s neonu-podobný – 1s22s22p6 (10 elektronů) niklu-podobný – 1s22s22p63s23p63d10 (28 elektronů) (neutrální nikl 1s22s22p63s23p64s23d8)

  12. Laserová akce v oblasti XUV Einsteinovy koeficienty Z principu detailní rovnováhy: A,B závisí jen na kvantové soustavě  vztah (1) platí i mimo rovnováhu Způsob odvození (1): V termodynamické rovnováze je rychlost přechodu1→2 stejná s rychlostí 2→1, tedy: N2A21 + N2B21UDw= N1B12UDw záření černého tělesa (pole v rovnováze): Boltzmanův vztah (hmota v rovnováze,g1=g2): DCv1

  13. Vztah mezi Einsteinovými koeficienty A a B Uvažujme jeden excitovaný kvantový systém (elektron v poli jádra) v uzavřené krychli o hraně L. V této krychli může existovat N módů EM pole s frekvencemi v int. <w,w+Dw> 1D:L=mlm/2 wm2pc/lm=mpc/L; Dwwn-wm=(n-m)pc/L N1Dn-m= Dw L/(pc) 3D:m(m1,m2,m3); m|m|; (pro jen jednu polarizaci) Počet módů v krychli o hraně L s frekvencemi v int. <w,w+Dw> Pro fotony (bosony  mají celočíselný spin) amplituda pravděpodobnosti emise fotonu pokud je v krychli n fotonů v jediném módu je pravděpodobnost vyzáření dalšího fotonu v tomto módu n+1-krát větší, než do libovolného jiného módu, kterých je ovšem N. (v tomto módu je pravd. stim. emise n-krát větší než spont. emise.) Pravděpodobnost spontánní emise ku pravděpodobnosti stimulované emise je tedy a v našem značení DCv2

  14. Laserová akce v oblasti XUV • Vzhledem ke krátkým dobám života na horní laserové hladině a agresivnímu plazmatu (poškozuje optiku ve své blízkosti) NELZE použít rezonátor probíhá proces tzv. ZESÍLENÉ SPONTÁNNÍ EMISE (zesílený šum – vliv na vlnoplochu, koherenci, divergenci, atd. – viz druhá přednáška) • DEF: zářivost do prostorového úhlu W: DCv3

  15. Laserová akce v oblasti XUV • Pokud bychom neuvažovali spontánní emisi (bereme v potaz pouze záření vzniklé stimulovanou emisí, tedy řešíme vztah stim. emise vs. absorpce) . D. Attwood Soft X-rays and extreme ultraviolet radiation. Kap. 7.2 . Intenzita potřebná k účinnému zesilování stim. emisí je úměrná 1/l4 je třeba vysoké hustoty dodaného čerpacího výkonu (k vytvoření inverze populace) – kratší vlnové délky jsou možné pouze v hustém a horkém plazmatu  kapilární výboj nebo laserové plazma v řídkém plynu – fungují do cca 25nm. pro kratší l laserové plazma s pevným terčem nebo plynové trysky

  16. Dělení RTG laserů • Podle způsobu ionizace • srážkami • silným optickým polem • fotoionizací vnitřní slupky • Podle způsobu čerpání inverze populace • srážkami • rekombinací • fotoionizací vnitřní slupky • Podle doby trvání zisku • kvazi-stacionární (většinou Ne-podobný iont) t ~100ps • tranzientní(většinou Ni-podobný iont) t~1ps • Z makroskopického pohledu – způsob vytvoření plazmatu • laserové plazma • plazma kapilárního výboje (pinč)

  17. Srážková ionizace • Při srážkách je vždy větší pravděpodobnost ionizace/excitace elektronu na vyšší hladině • Sahova rovnice (rovnováha při srážkách – LTE) Ip– ionizační potenciál (vlivem lokálního el. pole bývá redukován) Qi – partiční funkce (normalizuje distribuce jednotlivých stavů) (izolovaný atom , vlivem pole ostatních částic počítám jen konečnou sumu, která konverguje) • při ionizaci slupky s nižším n skok v Ip  vplazmatu jsou stabilní ionty s uzavřenou slupkou (He, Ne, Ni-podobné ) *LTE – (Local Thermodynamic Equilibrium) lokální termodynamická rovnováha – v rovnováze je pouze hmota, nikoliv záření

  18. Příklad: Ionizační energie Sn iontu Sn: Z=50 základní stav 1s2 2s22p6 3s23p63d10 4s24p64d10 5s25p2 Ne-like …2p6 Ni-like …3d10 Zdroj: http://spectr-w3.snz.ru

  19. Příklad: Srážková ionizace Sn iontu Řešení Sahovy rovnice pro cínové (Sn) plazma: Z=50 Daido H. Review of soft x-ray laser researches and developments,Rep. Prog. Phys.65 (2002) 1513–1576. Ne a Ni-podobné ionty dominují pro širokou oblast elektronových teplot

  20. Ionizace optickým polem (optical field ionization - OFI) Uplatňuje se při velmi intenzivních laserových pulsech (Ti:safírový laser s CPA) Lineárně polarizovaná vlna: Kruhově polarizovaná vlna: DCv4

  21. Ionizace optickým polem Multifotonová ionizace(MPI) : I ≈ 1011 - 1013 W cm-2 Atomární pole nenarušeno polem optickým Keldyshovo přiblížení: Přímý přechod vázaného stavu do stavu volného Keldyshův parametr: Ponderomotický potenciál Multifot. Ionizace: Ionizace tunelovým jevem:

  22. Ionizace optickým polem Ionizace tunelovým jevem: I ≈ 1014- 1015W cm-2 Atomární pole narušeno polem optickým ADK teorie: Ammosov-Delone-Krainov Řešení Schrödingerovy rovnice parabolické souřadnice asymptotický tvar vlnové funkce semiklasické přiblížení Keldyshův parametr:

  23. Ionizace optickým polem Ionizace potlačením pot. bariery: I > 1015 W cm-2 Atomární pole silně narušeno polem optickým (klasicky) prahový proces: Potenciální energie elektronu v poli jádra o náboji Z a elektrickém poli E kvantově: odraz na barieře (elektron nemusí být nutně uvolněn – obdobné jako při tunelování) DCv5

  24. Ionizace optickým polem - příklad Ionizace atomu helia ve stavu 1s2 lineárně polarizovanou vlnou (l=800nm, T- perioda).

  25. Srážkově excitační schéma Radiační přechod z horní laserové hladiny na základní hladinu je zakázán (výběrové pravidlo), zatímco srážková excitace je možná  2. excitovaná hladina je meta-stabilní.

  26. Srážkově excitační schéma Ne-podobné ionty Ni-podobné ionty poměrně nízká kvantová účinnost Rozdíl energií mezi různými slupkami (s různými hlavními kv. čísly n) většinou podstatně větší (l Z-2) než rozdíl energií hladin laserového přechodu (v rámci jedné slupky, l Z-1 )

  27. Srážkově excitační schéma Ne-podobné iontyNi-podobné ionty Existuje limit dosažitelných vlnových délek u těchto schémat (l>2nm)

  28. Rekombinační schéma • Rychlé přeionizování média následované (tříčásticovou) rekombinací • Pravděpodobnost rekombinace do vyšší hladiny je podstatně větší • Je třeba „studené“ plazma, jinak dochází k vyprázdnění horní laserové hladiny srážkovou excitací/ionizací (použítí OFI s krátkou vlnovou délkou namísto infračervené) • Možnost dosažení kratších vlnových délek (možný laserový přechod mezi hladinami s různým n → l Z-2)

  29. Rekombinační schéma - příklad

  30. RTGL na principu ionizace vnitřních slupek • Fotoionizace elektronu z vnitřní slupkyenergetickým fotonem ( hn>Ip ) • Zářivý přechod elektronu na vyšší hladině (zaplnění vakance) • Potenciálně vhodné pro dosažení kratších vlnových délek • Př] RTGL na sodíkových parách • první navržený XUV laser (Duguay, Rentzepis 1967), • Využívá zářivý přechod 3s-2p (37.2 nm)

  31. RTGL na principu ionizace vnitřních slupek • Fotoionizaceelektronu z vnitřníslupkyenergetickým fotonem ( hn>Ip ) • Zářivý přechod elektronu na vyšší hladině (zaplnění vakance) • Potenciálně vhodné pro dosažení kratších vlnových délek • Př] Neutrální neon • Zatím nejkratší experimentálně dosažená vlnová délka 1.46 nm • (hn=850eV, Kačára Ne, čerpáno svazkem X-FEL 960eV, LCLS SLAC) • Účinnost 10-3 N. Rohringeretal. Nature481, p.488 (2012)

  32. Šíření záření v gradientním prostředí • Plazma – většinou silně gradientní prostředí (profil elektronové hustoty ne) - refrakce Index lomu v plazmatu: Paprsková rovnice: Krátké l dobré přiblížení paprskové optiky Obr.: Exponenciální profil ne v laserovém plazmatu s pevným terčem

More Related