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機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」

機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」. （ 1 日目） 電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習. 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター. 本日の予定. 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 石英基板にレジスト塗布および EB 装置に導入 お昼休み（真空引き待ち） EB 装置の光学系調整および描画の開始 ファイルの変換作業の説明（ EB 描画中、省略する場合あり） 現像作業 作製した素子の SEM 観察 ＊青字はクリーンルーム内で作業. 電子ビーム描画装置 JBX-5000SI.

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機器利用講習会 「超微細光学素子を作る」

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Presentation Transcript

  1. 機器利用講習会「超微細光学素子を作る」 （1日目） 電子ビーム描画装置による回折格子のレジストパターン作製実習 大阪府立産業技術総合研究所 フォトニクス開発支援センター

  2. 本日の予定 • 簡単な電子ビーム描画装置及び本日行う作業の説明 • 石英基板にレジスト塗布およびEB装置に導入 • お昼休み（真空引き待ち） • EB装置の光学系調整および描画の開始 • ファイルの変換作業の説明（EB描画中、省略する場合あり） • 現像作業 • 作製した素子のSEM観察 • ＊青字はクリーンルーム内で作業

  3. 電子ビーム描画装置 JBX-5000SI 電子線源　　　　　 LaB6 加速電圧25KV or 50KV 試料サイズホルダーによる 最小ビーム径　　　 8nm つなぎ精度60nm/40nm 重ね合わせ精度60nm/40nm 描画方式 　 ベクトルスキャン 日本電子株式会社製

  4. 本日作製する素子 基板：1インチ角（25mm×25mm）石英 レジスト：NEB－22A2 パターン：200nm&200nm line&space 200nm L&S 200周期 5mm 20μm 5μC/cm2 → 9μC/cm2 80μm

  5. レジストの種類と選択 デジタル型レジスト アナログ型レジスト

  6. 露光 EB 現像 現像 ポジ型レジストとネガ型レジスト ポジ ネガ 露光 EB

  7. 実際のプロセス（基板洗浄済み） OAPおよび レジスト塗布 エスペーサ水洗 プリベーク PEB エスペーサ塗布および乾燥 現像 電子線描画 完成

  8. パターンの準備 必要ならばエッチング 微細加工フローチャート レジストの選択 描画時間計算 必要ならばエスペーサー塗布 基板の洗浄 レジスト塗布 EB装置の調整 EB描画 現像 性能評価

  9. パターンファイル（j01ファイル）について 目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。フォーマットにはいくつか種類がありますが、今回はテキスト形式でパターンを作成できるj01フォーマットを用います。作成したファイルは、EB装置が理解できる形に変換する必要があります。 今回用いるj01ファイル

  10. convプログラム j51ファイル パターンチェック preadプログラム パターンファイルの変換とは 作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。時間があれば作業を行います。 j01、x01、GDSⅡパターンファイル pchk6プログラム スキャナーデータ

  11. cmplプログラム schdプログラム ジョブデックファイル ＋ レイヤーファイル スケジュールファイル マガジンファイル ジョブデックファイル、スケジュールファイルとは パターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル（実行）ファイルを作成します。

  12. ステージ座標について (-30500, 30500) (30500, 30500) (0, 0) (-30500, -30500) (30500, -30500)

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