Innovative PECVD Machine Design for Nanotechnology Applications
This project focuses on the design and construction of a Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) machine, upgraded from an existing Reactive Ion Etching (RIE) system. Contracted by the Nanotechnology Research Center, the machine automates the polymer deposition process, eliminating the need for constant human monitoring. Key features include continuous monitoring of vacuum pressure, RF power, and gas flow rate, simplifying future modifications. Constructed with customizable materials, the machine is aimed at advancing research in nanotechnology while significantly minimizing operational costs.
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